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真空鍍膜


真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮,如果真空度不高結晶體就會失去光澤,結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體自然散射,結合差,工效低,光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶,用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。

中頻設備必須加冷卻水,原因是它的頻率高,電流大。電流在導體流動時有一個集膚效應,電荷會聚集在電導體表面,這樣使電導發熱,所以采用中孔管做導體中間加水冷卻。磁控濺射靶在發射時會產生高溫會使射槍變形,所以它有一個水套來冷卻射槍。同時磁控濺射可以被認為是鍍膜技術中最突出的成就之一,它濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好。

冷水機是一種水冷卻設備,能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水。其工作原理是先向機內水箱注入一定量的水,通過制冷系統將水冷卻,再由水泵將低溫冷卻水送入需冷卻的設備,冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱,達到冷卻的作用。冷卻水溫可根據要求自動調節,長期使用可節約用水。

冷水機能控制真空鍍膜機的溫度,以保證鍍件的高質量。如果不配冷水機就不能使真空鍍膜機達到高精度、高效率控制溫度的目的,因為自然水和水塔散熱都不可避免地受到自然氣溫的影響,此方式控制是極不穩定的。

冷水機具有完全獨立的制冷系統,基本不會受氣溫及環境的影響,水溫在5℃~30℃范圍內調節控制,因而可以達到高精度、高效率控制溫度的目的。

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